郑州钛铝靶钛铌靶厂家

溅射靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子
控制器件等；亦可应用于玻璃镀膜领域；还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、装饰用品等行
业。
分类
根据形状可分为长靶，方靶，圆靶，异型靶
根据成份可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材
根据应用不同又分为半导体关联陶瓷靶材、记录介质陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、**导陶瓷靶材和
巨磁电阻陶瓷靶材等
根据应用领域分为微电子靶材、磁记录靶材、光碟靶材、贵金属靶材、薄膜电阻靶材、导电膜靶
材、表面改性靶材、光罩层靶材、装饰层靶材、电极靶材、封装靶材、其他靶材

靶材的主要性能要求:
纯度
纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中，
对靶材的纯度要求也不尽相同。例如，随着微电子行业的迅速发展，硅片尺寸由6”, 8“发展到
12”, 而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材纯度可以满足
0.35umIC的工艺要求，而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。

进入20世纪90年代以来，随着新技术和新材
料，特别是微电子行业的新器件和新材料的飞速发展，溅射靶材的市场规模日益扩大。!1990"年世界靶材市场销售额为336-397亿日元，年增长率达到 20%；!1991!年约为377-443亿日元， 年增长率为10% 。!1995年仅日本的靶材市场就已达到500亿日元［G］ 。据不完全统计，!1999年世界靶材市场的 年销售额近!10亿美元，其中日本的市场份额**过世界市场的一半，美国的市场份额约占世界的三分之一，中国大陆的年销售额约E""300-500"万美元，闽台地区的年销售额约2500""万美元。由于电子薄膜、光学薄膜、光电薄膜、磁性薄膜和**导薄膜等在高新技术和工业上的大规模开发应用，靶材已逐渐发展成为一个专业化产业。随着高新技术的不断发展，世界的靶材市场还将进一步扩大

公司主要经营产品：
一、真空镀膜材料
1．高纯真空溅射靶材（99.9％——99.999％）
高**属靶材：锆靶Zr、铬靶Cr、钛靶Ti、铝靶Al、锡靶Sn、钒靶V、锑靶Sb、铟靶、硼靶B、钨
靶W、锰靶Mn、铋靶Bi、铜靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、钽靶 Ta、锌靶Zn、镁靶Mg、铌靶Nb、钼靶
Mo、钴靶Co、铁靶Fe、锗靶Ge、铪靶Hf、铅靶Pb、镍靶Ni、银靶Ag、硒靶Se、铍靶Be、碲靶Te、
不锈钢靶材S.S等……
多元合金靶材： 钛铝靶Ti-Al、钛锆靶Ti-Zr、钛硅靶Ti-Si、钛镍靶Ti-Ni、镍铬靶Ni-Gr、镍铝
靶Ni-Al、镍钒靶Ni-V、镍铁靶Ni-Fe、铁钴靶Fe-Co、铝硅靶Al-Si、钛硅靶Ti-Si、铬硅靶Cr-Si
、锌铝靶Zn-Al、钛锌靶材Ti-Zn、铝硅铜靶Al-Si-Cu等……