产地湖南株洲
是否危险化学品否
品牌利吉升
重量0.8
杂质含量0.1%
溅射靶材的要求较传统材料行业高，一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、
N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制；较高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均
匀性、成份与组织均匀性、异物（氧化物）含量与尺寸、导磁率、**高密度与**细晶粒等等。磁
控溅射镀膜是一种新型的物相镀膜方式,就是用电子系统把电子发射并聚焦在被镀的材料
上，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被
镀的材料就叫溅射靶材。 溅射靶材有金属，合金，陶瓷，硼化物等。
此产品广泛应用于真空镀膜行业，多弧离子镀膜设备，应用于各种膜层的镀制，银色，金色，玫瑰金，黑钛，玫瑰红，七彩色等
1.应用领域
产品广泛应用于真空制盐，精细化工，石油化工，制药，氯碱工业，电镀，电解，航空
**，海水淡化等行业。
2、加工工艺
锻造、轧制
3、表面
车光、倒角。表面清洁光滑，无起皮，气孔，裂纹等缺陷。
4、规格
Φ100*40，Φ98*40，Φ95*45，Φ90*40，Φ85*35，Φ65*40较常见，其他规格可按客户
要求制作。
5、执行标准
国标：GB/T 16598，GB/T2965 。
美标：ASTM B381,ASTM F67,ASTMF136, ASTM B348。
6、检测
破坏性检测：物理性能测试，硬度测试，化学成分测试。
无损检测：超声检测，渗透检测，外观检测。
多元合金靶材： 钛铝靶Ti-Al、钛锆靶Ti-Zr、钛硅靶Ti-Si、钛镍靶Ti-Ni、镍铬靶Ni-Gr、镍铝靶Ni-Al、镍钒靶Ni-V、镍铁靶Ni-Fe、铁钴靶Fe-Co、铝硅靶Al-Si、钛硅靶Ti-Si、铬硅靶Cr-Si、锌铝靶Zn-Al、钛锌靶材Ti-Zn、铝硅铜靶Al-Si-Cu等……
据《中国靶材行业报告》的统计，我国靶材产业的市场规模逐年扩大，仅溅射靶材在半导体集成电路领域的应用规模目前就已经达到十多亿元。
此产品广泛应用于真空镀膜行业，多弧离子镀膜设备，应用于各种膜层的镀制，银色，金色，玫
瑰金，黑钛，玫瑰红，七彩色等
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