有专业的熔炼设备，高真空感应熔炼，电弧熔炼，高温悬浮熔炼等，可定制二元合金，三元合
金，多元合金等，可为客户定制开发高温合金，高熵合金，非晶合金等。并且可以提供单质金属
原料。常规合金包括：
二元合金Al-Sc Al-Nd Al-Si Co-Fe Cr-Al Cu-Ga Fe-Ga Ni-Cr Ni-V Ni-Ti Ni-Fe Ni-
Cu W-Ti
三元合金Co-Fe-B Au-Ge-Ni Co-Cr-W Ti-V-Ni Ag-Cu-Zn
多元合金锆铜铪钛镍 铝铬钼钽钛锆 铝钴铬铁镍等多元高温高熵合金
镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形
成各种功能薄膜的溅射源。简单说的话，靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，用于高能激光
武器中，不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时，会产生不同
的杀伤破坏效应。例如：蒸发磁控溅射镀膜是加热蒸发镀膜、铝膜等。更换不同的靶材（如铝、
铜、不锈钢、钛、镍靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等
据《中国靶材行业报告》的统计，我国靶材产业的市场规模逐年扩大，仅溅射靶材在半导体集成电路领域的应用规模目前就已经达到十多亿元。
公司主要经营产品：
一、真空镀膜材料
1．高纯真空溅射靶材（99.9％——99.999％）
高**属靶材：锆靶Zr、铬靶Cr、钛靶Ti、铝靶Al、锡靶Sn、钒靶V、锑靶Sb、铟靶、硼靶B、钨
靶W、锰靶Mn、铋靶Bi、铜靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、钽靶 Ta、锌靶Zn、镁靶Mg、铌靶Nb、钼靶
Mo、钴靶Co、铁靶Fe、锗靶Ge、铪靶Hf、铅靶Pb、镍靶Ni、银靶Ag、硒靶Se、铍靶Be、碲靶Te、
不锈钢靶材S.S等……
多元合金靶材： 钛铝靶Ti-Al、钛锆靶Ti-Zr、钛硅靶Ti-Si、钛镍靶Ti-Ni、镍铬靶Ni-Gr、镍铝
靶Ni-Al、镍钒靶Ni-V、镍铁靶Ni-Fe、铁钴靶Fe-Co、铝硅靶Al-Si、钛硅靶Ti-Si、铬硅靶Cr-Si
、锌铝靶Zn-Al、钛锌靶材Ti-Zn、铝硅铜靶Al-Si-Cu等……
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