氮化钛（TiN）是相当稳定的化合物，在高温下不与铁、铬、钙和镁等金属反应，TiN坩埚在CO与N2气氛下也不与酸性渣和碱性渣起作用，因此TiN坩埚是研究钢液与一些元素相互作用的优良容器。
TiN有着诱人的金、熔点高、硬度大、化学稳定性好、与金属的润湿小的结构材料、并具有较高的导电性和**导性，可应用于高温结构材料和**导材料
除耐磨涂层外，氮化钛膜还大量用作表壳、表带和其它日用品的仿金镀层，其耐磨性远**过镀金层和其它仿金合金镀层。
70年代末，人们用离子镀制成氮化钛膜，沉积温度低于550摄氏度，可镀在高速钢上，使高速钢刀具的涂覆率达到50%以上
TiN在真空中加热失去氮，生成氮含量较低的氮化钛
氮化钛靶材---氮化钛膜是指由钛氮化合物组成的薄膜。氮化钛属于间隙化合物，具有美丽的金光泽，化学稳定性好，熔点高达3000℃，维氏显微硬度为20GPa左右。
此外，氮化钛膜还可用作耐腐蚀镀层、微电子器件的扩散障碍层、光学反射层等
氮化钛（TiN）具有典型的NaCl型结构，属面心立方点阵，晶格常数a=0.4241nm，其中钛原子位于面心立方的角**。TiN是非化学计量化合物，其稳定的组成范围为TiN0.37-TiN1.16，氮的含量可以在一定的范围内变化而不引起TiN结构的变化
60年代末，人们以TiCl4为原料，用化学气相沉积在硬质合金基体上制备出氮化钛膜，其反应温度在900-1100摄氏度
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